欢迎进入无锡市中迈德涂层科技有限公司官网!我们将竭诚为您服务!

服务热线

13961774773

行业新闻

您所在位置:首页 > 新闻中心 > 行业新闻
氮化铬涂层CrN基本介绍

发布时间:2019-06-18

来源:无锡市中迈德涂层科技有限公司

浏览次数:60

  采用阴极电弧等离子体沉积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术,它在许多方面类似于离子镀技术。其优点:在发射的粒子流中离化率高,而且这些离化的离子具有较高的动能(40-100eV)。许多离子束沉积的优点,如提粘着力,增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有自己一些独特优点,如可在较多复杂形状基片上进行沉积,沉积率高,涂层均匀性好,基片温度低,易于制备理想化学配比的化合物或合金。

  通过蒸发过程将阴极材料蒸发是源于高电流密度,所得到的蒸发物由电子、离子、中心气相原子和微粒组成。在阴极电弧点,材料几乎百分百被离化,这里离子在几乎垂直于阴极表面的方向发射出去,当带有高能量的铬离子碰到氮气后便会马上产生化学反应,变成气态的氮化铬分子了。

新闻中心

新闻推荐

联系我们

电  话:0510-83787811

手  机:13961774773

联系人:高梨明

邮  箱:glm@wxzmdtc.com

地  址:无锡市锡山经济技术开发区芙蓉村委内111号

在线咨询
高经理
高经理
13961774773
高经理
13961774773